【重磅合作】TRUMPF与荷兰光刻巨头ASML达成独家合作-发布新一代EUV激光器，攻克芯片制造"光源之巅"
来源：激光每日说
发布时间：2025-11-03
核心摘要：德国高科技企业TRUMPF与荷兰光刻巨头ASML达成独家合作，成功开发新一代EUV高能激光器。该激光器已于2025年10月首次成功测试，计划于2026年投入量产，将用于ASML下一代EUV光刻系统，为全球最先进的微芯片制造提供核心光源。
一、突破技术极限：重新定义EUV光源
这款被誉为"芯片制造之光"的激光器，代表着当今半导体设备领域的最高技术成就。TRUMPF对系统进行了全新设计，显著提升设备的可靠性与运行稳定性，同时能耗显著降低，有助于芯片工厂减少碳足迹。
技术突破亮点：
极致复杂系统：
由超过45万个零部件构成，总重超过20吨 功率突破：
在极紫外波段实现前所未有的高功率输出 能效跃升：
在提升性能的同时，能耗显著降低 可靠性革新：
专为7×24小时连续运行设计 
TRUMPF EUV激光器系统（来源：TRUMPF）
二、性能优势：为芯片制造注入"稳定之心"
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| 可靠性 |
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| 能效比 |
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| 集成度 |
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| 维护性 |
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三、应用前景：驱动算力革命的核心引擎
立即应用领域：
2nm及以下制程：
为下一代AI芯片、高性能计算芯片提供制造基础 高端移动设备：
支撑未来智能手机、平板电脑的芯片需求 自动驾驶芯片：
满足车规级芯片对性能和可靠性的双重标准
未来技术布局：
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量子计算芯片制造 -
异质集成与先进封装 -
下一代存储器件
四、产业格局与中国视角
全球竞争态势：
TRUMPF凭借其在EUV激光器领域的绝对优势，稳坐全球唯一量产供应商宝座。这一地位不仅来自于技术积累，更源于与ASML长达数十年的深度绑定。
对中国半导体产业的启示：
技术差距现实：
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EUV光源是我国在7nm以下先进制程遭遇"卡脖子"的关键环节 -
从激光产生到收集转换，整个物理过程涉及多项基础科学和工程技术
国产化进展：
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长春光机所、中科院等机构在EUV光源研发上取得阶段性成果 -
国内多家激光企业正在布局相关技术储备 -
"十四五"规划将EUV相关技术列为重点攻关方向
五、市场需求与供应链展望
需求驱动因素：
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AI大模型训练对算力需求呈指数级增长 -
智能汽车、物联网设备数量爆发 -
各国对半导体供应链自主可控的迫切需求
订单与产能布局：
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TRUMPF计划2026年开始向ASML批量交付 -
首批系统将优先供应台积电、三星、英特尔等头部芯片厂 -
全球EUV激光器市场规模预计在2028年突破120亿美元
结语：追光之路，永不止步
TRUMPF与ASML的这次技术突破，不仅是两家企业的胜利，更是整个人类在微观制造领域向前迈出的重要一步。这束极紫外光，照亮的是数字经济的未来，也是全球科技竞争的新格局。
对于正在崛起的中国半导体产业而言，前方的道路虽然充满挑战，但唯有坚持自主创新、开放合作，才能在这场"追光"竞赛中赢得属于自己的一席之地。EUV激光器的突破告诉我们：核心技术买不来，也等不来，必须靠自己创造出来。
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