顺络新型钽电容:小体积、大容值、低漏流、高可靠,破解供需困局

来源:顺络电子(Sunlord)

发布时间:2026-09-28

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背景


在AI服务器、工业控制、车载电子、高密度DC-DC模块等前沿领域,电容的性能直接影响整机稳定性、寿命与工作精度。作为经典固态电容,钽电容凭借独特的材料与结构优势,成为高可靠场景的主流选择。而在实际硬件设计中,工程师常会在钽电容与MLCC多层陶瓷电容之间反复权衡。本文将对比传统钽电容相较于MLCC的优势、顺络新型钽电容相较于传统钽电容的优势。


钽电容VS MLCC


钽电容对比MLCC,有如下4个主要的优势:


钽电容对温度耐受能力较强,在同样的工况下电容值波动更小

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钽电容无偏压特性,随着电压增加容量不会衰减

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相同工作电压下,同规格钽电容可1颗代替多颗MLCC,有效缩减 PCB占用面积;

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钽电容相较于MLCC没有啸叫

电路里电容发出啸叫,根源大多是逆压电效应:交变电压让电容介质反复伸缩振动,与电路板形成共振,从而产生噪音。


  • 常见大容量MLCC用钛酸钡铁电陶瓷做介质,压电效应很强,通电后形变幅度大,加上内部是致密刚性叠层,振动容易直接传到PCB,啸叫会很明显。


  • 而钽电容的介质是五氧化二钽,不存在压电效应,本身不会因电压产生大幅伸缩;内部多孔钽粉、柔性导电层还能缓冲吸收振动,塑封外壳进一步阻隔震动传导,不会出现可闻啸叫。


顺络新型钽电容VS传统钽电容


体积利用率提升25%以上

新结构产品体积利用率更高;更易实现小型化、薄型化。


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高电压大容量

在相同封装体积内,采用新结构可以增加钽芯长度,提高钽粉装粉量。根据公式 CV= 比容 * 粉重,当比容一定时,粉重提升相当于 CV 值提高,因此 C 值和(或)V 值可以提高,即实现高压大容量。


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低漏电流

新结构产品采用PCB板底部电极,无需折弯,避免对钽芯的二次破坏,漏电流不会增大。


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传统 Frame 结构折弯前后 LC 与新结构 LC 对比 ( 以 25V,33μF, C size 为例):


传统结构端子折弯前后,LC 从 2.58μA 变化到 3.17μA,增大了 23%;而新结构钽电容为底部电极,无需折弯,LC 无变化。


高防潮性

新结构钽电容采用PCB代替引线框,热膨胀系数接近,与塑封料结合良好。


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典型应用


AI服务器

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ESSD

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PC

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ADAS

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顺络新型钽电容,具有低背、高压、大容值、低ESR、低漏流、高可靠等显著优势,十分适用于超薄便携式产品和AI数据中心及边缘计算等相关应用。


顺络新型钽电容,稳定算力根基,为AI产业链赋能,为您的产品保驾护航!


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