涂胶显影机上的温度控制案例：利用温度均一技术，减少调温时的人工依赖-感算商城

涂胶显影机上的温度控制案例：利用温度均一技术，减少调温时的人工依赖

来源：OMRON(欧姆龙)

发布时间：2026-09-28

设备概况

涂胶显影机是芯片制造中光刻工艺段的关键设备，主要用于在晶圆表面形成超薄光刻胶膜。其工艺主要分为两个步骤：涂胶和烘烤坚膜。

涂胶工艺是通过点胶头将光刻胶滴涂到晶圆表面，由真空吸盘吸附晶圆并高速旋转，实现光刻胶的均匀涂覆。匀胶完成后进行烘烤坚膜工艺，通过热盘加热使光刻胶中的有机溶剂挥发，最终形成均匀的超薄胶膜。

课题

人工调整温度依赖熟练工的经验，调整时也会存在过温等情况，影响生产。

解决方案

通过优化算法&MATLAB实现温度均一自动补偿算法，使各分区控温精度达到了±0.05℃，预测Rmin为0.275，时间为2秒，实现对人工调盘的替代。

实现价值

经营层：协同推进核心设备自主化技术攻关，支持客户构建差异化制造能力。

业务层：通过设备性能优化与自动化能力升级，实现特定工序从人工调整向全自动化的转型，优化人力资源配置，支持品质精益化管理目标的实现。

现场层：欧姆龙提供的技术支持和调试服务，使各分区控温精度达到±0.05℃，温度均一性指标R=0.28，显著提升了设备整体效率和工艺品质。

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