原子层沉积设备上的系统控制方案

来源:OMRON(欧姆龙)

发布时间:2026-09-23


原子层沉积(ALD)是一种以准单原子层形式逐层周期性生长的薄膜沉积技术。ALD设备凭借其原子级别的精确控制能力、优异的薄膜覆盖性以及超薄膜厚的均匀性,为逻辑芯片和存储芯片的介质层等关键工艺提供先进的解决方案。

 


课题


■ 如何在石英腔体内非接触的情况下,检测出机械手晶圆位置。

■ 如何实现大数据配方下发功能(配方数据量约为2万个字)。

解决方案


■ 通过环网技术实现远程模块环网冗余,防止因模块断线引起的物料损失。NX502+第三方摄像头实现传送机构的程序及视频全流程监测,上位机FINS大数据配方下发功能+逻辑控制配合下位PLC执行方案适配ALD控制系统。

■ FINS一次下发1000个字,通过分段下发方式来完成,如果某段发送失败(通过FINS指令反馈代码)则重新发送该段代码。PLC无需编写通讯程序,只需要上位机按FINS协议开发。

系统配置


系统架构由工控机PC与欧姆龙NJ系列控制器+晶圆搬运机械手组成。其中,PC为上位机,NJ+ECC+ID+OD+AD+DA为下位执行机构,两者通过交换机,以EtherNET(FINS)交互式通讯,实现整个系统的全数字控制。

 

实现价值


工程师层:采用FINS大数据传输控制技术,无需复杂编程即可实现大规模配方数据的高效传输,显著缩短客户开发周期,完成系统的全数字化控制部署。

管理层:通过实时数据分析赋能生产全流程,协同探索生产效率提升、成本结构优化与产品品质保障的可持续发展路径。

经营层:依托专项技术能力,助力客户实现价值增长,促进商业机会的有效转化。

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