LDetek 工业气相色谱:精准监测电子气中痕量杂质

来源:DwyerOmega

发布时间:2026-04-27

在半导体制造、LED生产、光伏产业以及平板显示等高科技领域,电子气体纯度是决定最终产品性能和生产效率的关键因素。LDetek工业气相色谱系统提供高灵敏度、高稳定性的实时在线监测解决方案,确保您的工艺气体纯净无瑕,从而优化生产工艺并显著提升产品质量。

MultiDetek3

电子气体监测设计的旗舰产品


MultiDetek3 是一款受欢迎的紧凑型模块化过程工业气相色谱仪,具有双进样气入口和在线模块,可以同时对微量水分、氧以及微量杂质进行流分析。


MD3

产品概述
技术优势
✦ MultiDetek是LDetek专为电子特气和大宗气体监测开发的工业级气相色谱系统
✦ 模块化设计,可同时配置多达3个独立的检测通道
✦ 适用于半导体fab、气体供应商、特气生产企业等多种应用场景

✦ 多检测气并行工作,一台设备可同时监测多种气体和杂质,两个GCs合二为一
✦ 智能化自动进样和分析,无需人工干预
✦ 紧凑型设计,节省宝贵的洁净室空间;15.6英寸触摸屏,便于查看和操作


MultiDetek 3

监测关键杂质类型及危害



氧气和水分

电子气体中常见的污染物。它们会导致半导体晶圆在高温工艺中发生氧化反应,腐蚀敏感材料,严重影响薄膜生长质量、器件性能和合格率。例如,在ALD/CVD工艺中,痕量氧和水分需要严格控制在0.1 ppm甚至ppb以下,避免缺陷。



碳氢化合物

包括甲烷、乙烷,丙烷以及苯系物等有机杂质。这些杂质在半导体化学气相沉积和蚀刻等工艺中,可能在晶圆表面形成碳膜残留,导致产品电气性能异常、短路或开路,甚至影响后续工艺的兼容性。



金属羰基化合物

如镍羰基、铁羰基等,是极微量的金属污染物。即使是ppb级的浓度,也可能在半导体制造中沉积在晶圆表面,影响金属互连线的电阻率、可靠性,甚至导致器件失效。对这些杂质的精确控制是确保过程节点良率的关键。


MultiDetek 3

助力提升应用过程的效益

MultiDetek3具有0.11000ppb级别的低痕量杂质检测能力,灵敏度高,可精准识别水、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、一氧化二氮,总碳氢化合物等多种关键杂质成分。因此可以显著减少因气体不纯导致的晶圆报废率。

01
气体纯度 最高至99.999999%

LDetek系统可稳定监测电子气体纯度最高至89(99.999999%),检测下限可达0.1ppb,确保满足严苛的半导体制造要求,减少气体不纯带来的危害。

02
响应时间 5分钟

MultiDetek3系统可在5分钟内完成一个分析循环,实现对气体质量的快速检测和异常预警,平均重复性精度优于±2%,有助于提升整体净化效率。

03
降低成本 30%

通过精准控制气体纯度,有效减少原材料浪费和不良品率,帮助客户实现高达30%运用成本节约。系统正常运行时间高达99.5%提高生产效率。

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