半导体清洗的精密控流核心

来源:Schalod( 夏罗登)

发布时间:2025-12-03

小体积突破,适配 100SLM 氮气吹扫场景


在 100SLM 氮气吹扫腔体这一客户普遍应用的场景中,我们实现了关键差异化突破 ——在满足同等氮气吹扫效率与腔体环境要求的前提下,将设备体积大幅缩小,打破行业内同类产品 “大尺寸” 的普遍现状

空间适配性升级

解决客户生产 / 实验场景中 “空间紧张” 的核心痛点。相较于品牌需占用较大场地的大尺寸设备,我们的小体积设计可灵活嵌入紧凑车间、实验室工作台等空间,无需为设备单独规划大面积安装区域,降低场地投入成本。

效率与尺寸兼顾

不因体积缩小牺牲核心性能。通过优化内部流道设计与腔体结构,确保 100SLM 氮气吹扫时的气流均匀性、密封性与置换效率,与大尺寸设备保持一致,甚至在局部气流控制上更精准,避免因体积压缩导致的吹扫不彻底问题。

便捷性提升

小体积带来更灵活的运维优势。设备搬运、安装无需大型吊装工具,后期清洁、部件维护时操作空间更易把控,减少人力与时间成本,尤其适配需要频繁调整设备位置的客户场景。

对比性优势

明确对标 “行业普遍大尺寸”,让客户直观感知 “同样用 100SLM 氮气吹扫,我们能帮你省出更多空间”,形成清晰的选择差异点;

场景化价值

无论是中小型企业的紧凑车间,还是高校 / 科研机构的实验室,小体积设计都能精准匹配其空间需求,避免 “设备买得起、场地放不下” 的尴尬,提升客户决策意愿。


具体的适配参数表如下:

应用场景

适配气体类型

流量范围

精度等级

温压补偿范围

通讯接口

备注

半导体晶圆清洗

氮气、氧气、氩气

0-50 SLM

±1% RD

温度:0-50℃;压力:0.1-0.6 MPa

RS-485/Modbus

适配精密杂质去除,保障晶圆洁净度

电子元件清洗

氮气、干燥空气

0-20 SLM

±1% RD

温度:0-40℃;压力:0.1-0.5 MPa

RS-485/Modbus

适配微小元件,减少残留

医疗器件清洗

氮气、无菌空气

0-30 SLM

±1% RD

温度:5-45℃;压力:0.1-0.5 MPa

RS-485/Modbus

符合医疗洁净标准,适配消毒后干燥

机械零部件清洗

氮气、压缩空气

0-100 SLM

±1% FS

温度:0-60℃;压力:0.1-0.8 MPa

RS-485/Modbus

适配高压清洗辅助,提升去污效率


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