PECVD设备腔体的温度均衡控制方案-感算商城

PECVD设备腔体的温度均衡控制方案

来源：OMRON（欧姆龙）

发布时间：2025-11-17

应用介绍

【行业】PV

【设备】PECVD

【用途】在太阳能电池表面沉积薄膜，提高电池的效率和性能

应用场景

单台设备分为5个炉管，每个炉管分为6个温区，通过串级控制实现对腔体内部的控温。

解决课题

■ 关乎镀膜效率的核心数据：升温和回温速度较慢，从0度升到目标500度需要40分钟以上；加入气体以及硅片回温到目标温度需要15分钟。

■ 温控精度影响镀膜的均匀度以及电池效率，目前设备只能达到±5℃。

价值提案

核心产品 温度控制单元 NX-TC

■ 自带外部干扰抑制功能，能够针对可预测的外部干扰预先抑制温度变化。实现升温时间（40min→35min）与回温时间（15min→13min）的缩短。

■ 启动时自动调整PID，有效削减繁琐调整的工时。温控稳定（ ±5℃ → ±3℃）

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