质量流量控制器在薄膜沉积工艺中的应用-感算商城

质量流量控制器在薄膜沉积工艺中的应用

来源：盛思锐

作者：-

发布时间：2025-05-26

阅读量：2

薄

膜

沉

积

听上去很高大上的“薄膜沉积”到底是什么？

简单来说：薄膜沉积就是帮芯片“贴膜”的。

薄膜沉积（Thin Film Deposition）是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜，再配合蚀刻和抛光等工艺的反复进行，做出堆叠起来的导电或绝缘层。

用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备，制造工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD）。

在沉积过程中进行稳定和精确的气体控制

物理气相沉积是Sensirion质量流量控制器最成功的应用场景之一，核心优势就在于产品自身超高的可重复性和稳定性：

应用挑战

需要一致且可重复的过程来加强控制并提高生产产量

先进工艺需在气体之间进行高速切换

同一过程中使用多种气体

盛思锐解决方案

理想的可重复性，通常大幅优于常规方案

更短稳定时间

多气体校准

举例来说，在工艺参数设定中，其实氩气流量是1.2slm还是1.3slm并非最核心的考量，真正重要的是让设备每次执行时都能输出相同的流量。这才能使得设备使用者可以安心地进行工艺参数优化，在确定最佳参数组合后，确保生产过程中的流量控制具有理想的一致性。

在薄膜沉积过程中，SFC5500系列可确保气体流量控制的高度一致性，使工艺参数的优化成果稳定复现。不同于传统质量流量控制器对于高精度的单一追求，SFC5500系列更关注生产过程中重复性保障，让客户在完成镀膜参数调优后，能够实现几乎每一次的理想沉积，确保所获薄膜的均匀性和整体质量，并为最终量产效果提供可靠技术保障。

凭借CMOSens^® MEMS流量传感器的超高控制范围，SFC5500系列的单个器件即可覆盖传统质量流量控制器的多个流量范围，同时还配有多气体校准功能与可更换配件，是市面上第一款适合广泛应用的标准现货供应质量流量控制器。