来源:众星联恒
发布时间:2025-06-05
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过去,芯片是电子器件的集合,而如今,一种以“光”为核心的全新芯片体系正加速成形。量子光子芯片,将光子作为信息载体,集成发光、调控、探测等功能单元,在纳米尺度上完成量子态的操控、传输与转换,成为连接量子计算、量子传感与量子通信的关键平台。
这一领域正成为量子信息科学的核心研究热点,吸引了全球顶尖研究机构的投入。近期,三项发表在《Nature》《Nature Nanotechnology》和《Communications Materials》上的研究,分别在光子量子计算平台、基于金刚石的高灵敏度传感器与微波-光频率转换器方向实现重要突破。这些成果不仅验证了量子光子芯片的工程可行性,更展现了其在未来构建可扩展、低噪声、强互联的量子系统中的关键作用。
在发表于《Nature》的研究中,PsiQuantum 公司(美国)联合GlobalFoundries,通过工业级 300 mm 硅光子工艺,提出并验证了一种可大规模制造的光子量子计算平台。该平台集成了光子对生成、调控干涉、量子测量与芯片间互联等多个功能模块,构建了支持双轨编码的量子比特系统。
研究者采用硅光子波导结构结合超导单光子探测器(SNSPD),实现了以下关键指标:
单量子比特制备与测量保真度达 99.98% ± 0.01%;
独立源间 Hong–Ou–Mandel 干涉可见度为
99.50% ± 0.25%;
双比特 Bell 态融合保真度达 99.22% ± 0.12%;
芯片间量子比特互联保真度为 99.72% ± 0.04%
(光纤连接,C 波段传输)。
同时,团队还展示了面向容错计算所需的下一代器件,包括低损耗氮化硅波导(<0.5 dB/m)、高效率光子数分辨探测器(PNRDs)及 BTO 电光调制器,为大规模容错光子量子计算系统奠定了器件基础。
图1 量子基准电路
(这些电路可以通过示意图中红色指示的热移相器进行重新配置)
a:量子态制备和测量示意图;
b:点对点量子比特网络;
c:双光子量子干涉;
d:双量子比特融合测量。
东京工业大学 Katsumi Ryota 等人报道了一种基于金刚石微环谐振器的集成量子磁传感器。该器件通过在金刚石单晶中引入高密度 NV(nitrogen-vacancy)色心,并构建微米级光学谐振腔,实现对磁场的高灵敏度探测,适用于纳米尺度的物理场测量。
在器件制备方面,研究者采用“pick-flip-and-place”转印工艺,将微环结构高效集成至 SiO₂ 光子平台,并利用波导结构实现对 NV 色心荧光信号的高效耦合与读取。实验表明,该系统在室温下即可稳定运行,ODMR(光学检测磁共振)信号对比度达到 25%,接近理论极限,同时实现了 NV 色心的自旋操控,相干时间(T₂)可达 6.0 微秒。在磁场灵敏度方面,原始结构下可达到 1.0 μT/√Hz,通过引入光波导耦合优化后,进一步提升至 1.3 nT/√Hz,展现出优异的信号获取能力。
该工作证明了金刚石量子传感器在微纳尺度集成、光子耦合效率与高灵敏度磁测量方面的潜力,为构建芯片级生物医学和材料分析传感器奠定了基础。
图2
a:金刚石环谐振器与SiN低损耗波导光学耦合的示意图。
(插图:所研究结构的横截面)
b:637nm处腔谐振模式的电场分布(Ey分量)。
加州理工学院 Mirhosseini 团队提出了一种基于硅纳米力学谐振结构的微波-光子量子转换器,实现了在单光子噪声水平下的连续转导操作。该系统面向低温超导量子比特与远程光子通信节点之间的互联需求,是构建量子互联网基础设施的关键器件之一。
该器件通过电静力驱动实现微波与机械模态之间的耦合,同时利用光弹效应将机械振动有效转化为光学信号,从而在同一纳米结构中实现了微波、机械与光学三者的协同交互。实验显示,该系统在不依赖脉冲操作的连续驱动模式下,成功将微波信号上转换至光频,且整个过程中的输入参考附加噪声低至 nₐdd = 0.58,达到了“量子可用”门槛。此外,该转换器在特定参数下实现了22%的转导效率,带宽-效率乘积约为1.9 kHz,相较于现有同类系统提升了近两个数量级。更重要的是,该系统完全基于硅材料构建,规避了压电材料对超导量子器件可能造成的相干性损耗,具有良好的 CMOS 兼容性与低温操作稳定性。
图3 电光机械传感器示意图
机械谐振器通过同时耦合到微波谐振器和光学谐振器
来介导微波-光学频率转换。
输入微波信号通过静电驱动转换为机械振荡。
机械振荡调制泵浦光腔,从而产生转换后的光输出。
图5 芯片的光学显微镜图像
综上所述,三项前沿研究分别从量子计算核心平台(PsiQuantum)、高灵敏度量子传感器(东京工业大学)和量子互联接口(加州理工学院)出发,展示了光子芯片在不同子系统中的集成路径与关键性能突破。这些成果不仅证明了光子平台在低噪声、高保真、强互联方面的天然优势,也预示着量子系统从“实验演示”走向“可制造、可部署”的新阶段。这也对器件制造提出了更高要求,特别是对亚微米结构、高纵深刻蚀、高折射率材料加工等方面的精度与一致性控制提出挑战。