国产光刻胶突围，日企垄断终松动
光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材，尤其高端材料长期被日美巨头垄断，国外企业对原料和配方高度保密，我国九成以上光刻胶依赖进口。不过近期，国产光刻胶领域捷报频传——从KrF厚胶量产到ArF浸没式胶验证，从树脂国产化到EUV原料突破，一场静默却浩荡的技术突围战已进入深水区。
行业动态
2025-07-14
膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量
光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种关键的耐蚀剂刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下，溶解度会发生变化，主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。由于光刻胶生产技术复杂、品种规格多样，在电子工业集成电路制造中，对其有着极为严格的要求，而保证光刻胶产品的厚度便是其中至关重要的一环。
应用方案
2025-07-29
