光刻胶旋涂的重要性及厚度监测方法
随着科技不断发展，芯片制造领域逐渐从微米时代迈向纳米时代，许多高新企业在这微观尺寸中不断追求卓越的技术创新。而目前的主流芯片制造中，光刻工艺是形成精细电路图案的核心技术之一。
光刻胶旋涂, 芯片, 光刻图案
应用方案
2025-09-19
国产光刻胶突围，日企垄断终松动
光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材，尤其高端材料长期被日美巨头垄断，国外企业对原料和配方高度保密，我国九成以上光刻胶依赖进口。不过近期，国产光刻胶领域捷报频传——从KrF厚胶量产到ArF浸没式胶验证，从树脂国产化到EUV原料突破，一场静默却浩荡的技术突围战已进入深水区。
行业动态
2025-07-14
