来源:VICTRONICS
发布时间:2025-06-19
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什么是IGBT: IGBT--Insulated Gate Bipolar Transistor 绝缘栅双极晶体管。是以GTR为主导元件,MOSFET为驱动元件的达林顿结构的复合器件。原Si硅作为衬底的 Mosfet做高压的管子性能很差,只能在Si Mosfet结构基础上增加N-漂移区作为主要耐压阻断,N-越大,耐压越高。在加上衬底就构成IGBT了。
自20世纪80年代问世以来,IGBT(绝缘栅双极晶体管)的技术革新正历经七代核心突破,每一代都围绕提升效率、降低损耗、增强可靠性展开,推动电力电子技术向更高性能、更小体积和更低成本演进。
不同厂商划分不同,例如三菱划分如图:
第一代(1980年代):平面穿通型(PT-IGBT)
技术突破:采用重掺杂P+衬底和N+缓冲层结构,实现高电压阻断能力(600V-1200V)。
应用:早期工业变频器、UPS电源。
第二代(1990年代):非穿通型(NPT-IGBT)
技术突破:改用低掺杂N-衬底,取消N+缓冲层,避免电场穿透漂移区。平面栅结构简化工艺,无需载流子寿命控制。
应用:工业电机驱动、电焊机。
技术突破:引入垂直沟槽栅结构,消除JFET效应,电流密度提升30%。场截止(FS)层优化电场分布,开关损耗降低40%。
技术突破:晶圆减薄技术(从300μm降至100μm)降低导通电阻。背面P+注入优化,平衡导通损耗与关断速度。至今仍是应用最广泛的IGBT技术。
应用:高压变频器、轨道交通。
技术突破:厚铜封装替代铝线键合,提升散热能力与抗振动性。芯片面积缩小40%,支持更高工作结温(175℃暂态)。
应用场景:电动汽车主驱逆变器(如特斯拉Model 3采用英飞凌IGBT)。风电变流器(三菱电机HV-IGBT模块)。
技术突破:微沟槽栅极(μ-Trench)进一步提升电流密度,Vce(sat)降低20%。部分厂商引入碳化硅(SiC)衬底,开关损耗再降50%。
应用:光伏储能系统(华为1500V逆变器)。电动飞机与船舶(三菱电机J3系列模块)。
技术突破:氮化镓(GaN)衬底研发,目标电压突破10kV。3D封装与AI驱动 的自诊断功能集成。
应用方向:特高压直流输电(国家电网规划)。量子计算低温制冷系统。
行业代际划分的争议与厂商差异
厂商技术路线差异:
英飞凌将第七代定义为“TrenchStop 7”,而三菱电机2025年推出的第8代IGBT(如CM1800DW-24ME)采用分离式栅极沟槽(SDA1)和等离子体层(CPL2)结构,进一步降低损耗15%。
中国厂商如斯达半导、士兰微、新洁能目前主要应用第五至第七代技术,与国际巨头存在1-2代差距。
技术迭代标准:
代际划分通常以结构创新(如沟槽栅、FS层)或材料突破(如SiC、GaN)为标志,而非单纯的性能优化。
例如,英飞凌的“TrenchStop 5”到“TrenchStop 7”属于同一代内的优化,而“PrimePACK”系列则代表封装技术的代际升级。
尽管IGBT仍主导中高压市场(600V-3300V),但碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)器件正在侵蚀其份额:
SiC MOSFET:开关损耗仅为IGBT的20%,2025年价格已与高端IGBT持平,适用于800V电动车和1500V光伏逆变器。
GaN HEMT:高频性能(MHz级)颠覆传统IGBT应用,如数据中心电源和消费电子快充。
相关厂商:
1. 英飞凌(Infineon,德国)
2. 三菱电机(Mitsubishi Electric,日本)
中国大陆厂商:
26. 矽迪半导体(苏州)