光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种关键的耐蚀剂刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下，溶解度会发生变化，主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。由于光刻胶生产技术复杂、品种规格多样，在电子工业集成电路制造中，对其有着极为严格的要求，而保证光刻胶产品的厚度便是其中至关重要的一环。

应用方案

2025-07-29

在半导体、微电子、光学、显示、新能源、汽车、航空航天等行业，薄膜厚度测量都起着关键作用。如：芯片制造中的光刻胶和介电层、MEMS器件的功能薄膜、光伏电池的减反射膜、钙钛矿太阳能电池的功能层等等。

技术分享

2025-06-30